Způsob spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu

Varování

Publikace nespadá pod Fakultu sociálních studií, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Autoři	KRUMPOLEC Richard ČERNÁK Mirko ZELENÁK František
Rok publikování	2022
Druh	Patent
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Vydavatel	Úřad průmyslového vlastnictví
Stát vydání	Česká republika
Číslo patentu	309452
www	Patentový spis - Udělený patent
Popis	Metoda řeší problematiku přípravy redukovaného grafen oxidu (rGO). Redukce a exfoliace grafen oxidu (GO) je jedna z možností výroby grafenu a grafenu podobných materiálů s zajímavými elektrickými, tepelnými a mechanickými vlastnostmi. Metoda využívá nízkoteplotní neizotermické plazma generované při atmosférickém tlaku. Způsob se týká spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu s obsahem oxidu grafenu pro zvýšení celkové elektrické vodivosti a specifického povrchu porézního materiálu a jeho podstata spočívá v tom, že se vygenerováním plazmatu v těsné blízkosti a uvnitř pouze části z celkového objemu redukovaného-exfoliovaného porézního materiálu spustí samovolně šířící proces redukce-exfoliace oxidu grafenu, přičemž pro vygenerování spouštěcího plazmatu jsou splněny konkrétní parametry.
Související projekty:	R&D centre for plasma and nanotechnology surface modifications